第42回IEEE EPS (CPMT Society) Japan Chapter イブニングミーティング
42nd IEEE EPS (CPMT Society) Japan Chapter Evening Meeting
(開催報告)


主催: IEEE EPS Japan Chapter

日時: 2018年11月30日(金) 16:30 - 18:30
(受付開始 : 16:15)

場所

東京大学 本郷キャンパス
工学部14号館1階142講義室


会場アクセス

http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/map01_02_j.html
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_15_j.html



プログラム

■ 16:30 - 17:30

GaNマイクロLED:現状と課題
GaN Micro LED: Current Status and Future Issues

講演者:王 学論(産業技術総合研究所)
Presenter: Xuelun Wang (AIST, Nagoya University)

概要
Abstract

■ 17:30 - 18:30

減圧水蒸気プラズマによる酸化銅の還元および表面の改質効果
Reduction of oxidized metal and surface modification by water vapor plasma at low pressure

講演者:橋本泰知、寺井弘和、中野博彦、辻理(サムコ株式会社)
Presenter: Taichi Hashimoto, Hirokazu Terai, Hirohiko Nakano, and Osamu Tsuji (Samco Inc.)

概要
Abstract

王氏


サムコ株式会社




活発な議論が行われました。


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