IEEE Kansai Section 第98回技術講演会

IEEE 関西支部 会員各位
IEEE Kansai Section Members
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IEEE SSCS Kansai Chapter Members
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IEEE MAG Kansai/Shikoku Joint Chapter Members

IEEE Kansai Section
Chair Miki Yamamoto
山本 幹
IEEE SSCS Kansai Chapter
Chair Makoto Nagata
永田 真
IEEE MAG Kansai/Shikoku Joint Chapter
Chair Toshiyuki Matsui
松井 利之

IEEE Kansai Section第98回技術講演会のご案内
The 98th IEEE Kansai Section Lecture Meeting

IEEE関西支部および関西支部SSCS Chapter,MAG Chapterでは,会員サービスの一環として,技術講演会を企画・実施しています。 第98回は,東北大学大学院工学研究科電気エネルギーシステム専攻 山口正洋 教授をお招きし,下記のとおりに開催致します。

IEEE会員以外の方もご参加いただけます。ご周知頂ければ幸いです。

IEEE Kansai Section will have the 98th IEEE Kansai Section Lecture Meeting as follows.

技術講演会概要

講演会テーマ (Title)

高周波磁気デバイスの進展とICチップレベルノイズ抑制技術への展開
High Frequency Magnetic Device Progress and Application to IC-Chip-Level Noise Reduction

講演者 (Lecturer)

東北大学大学院工学研究科電気エネルギーシステム専攻 山口正洋 教授
Professor Masahiro Yamaguchi, School of Engineering, Tohoku University

講演内容 (Abstract)

題目:高周波磁気デバイスの進展とICチップレベルノイズ抑制技術への展開
概要:
講演概要:
モバイル通信トラフィックは、毎年2倍近い割合で増大を続けており、ビジネス、個人を問わず、 将来のスマート社会のバックボーンを形成しつつあります。高周波帯で高い透磁率を有する強磁性薄膜材料は、 次世代の移動通信用RFICおよびPOL(point-of-load)ワンチップDC-DCコンバータ用のCMOS集積課インダクタ、 あるいはCMOS集積化電磁ノイズ抑制体等への応用を念頭に、学界および産業界から大きな関心を集めています。 本講演では、まず高透磁率を有する代表的な薄膜材料として、合金磁性体と酸化物磁性体を取り上げ、磁気的な 基礎特性とデバイス応用の動向を概説します。次いで、講演者らが推進中のCMOS集積化電磁ノイズ抑制体について、 開発の背景となるアナログ-デジタル混載RF ICの内部デジタルノイズ結合の課題を提起し、この課題の解決方法と して磁性薄膜の強磁性共鳴損失を利用してノイズ電力を熱に変換して抑制する手法を提案し。その効果をLTE級RFIC 受信フロントエンド回路における帯域内スプリアス減衰の実験により確認し、さらに本技術により通信性能が向上する ことをエミュレーション-シミュレーション結合診断システムにより実機に近いレベルで予測しました。本技術は ICチップレベルのデジタルノイズ抑制に広く適用可能であり、ノイズ抑制の周波数帯域幅とピークノイズ減衰レベルを 定める上でギルバートダンピング係数(α)が重要であることを指摘して講演を纏めます。
Abstract
Mobile communication traffic is continuously doubling in recent years because of ever-expanding data transfer rate for business and personal smart living use, which form a backbone of future smart city. Ferromagnetic thin film materials, having high permeability at (and above) radio frequencies, are candidate materials for use in inductive passive components that are available in the forms of vacuum-deposited metallic alloys, traditional oxides, among others. Using these materials, the development of CMOS integrated inductors and integrated electromagnetic noise suppressors for next generation, mobile communication RFIC and Point-of-Load one-chip DC-DC converters, is attracting great interest from both academic and industrial communities.
This talk firstly reviews soft magnetic thin film materials and potential devices, and forcus on electro-magnetic noise coupling and associated interference in analogue and digital ICs, followed by their countermeasure to implement magnetic film on to LTE-class RF IC receiver front-end circuitry, where ferromagnetic resonance losses of magnetic thin film dissipate noise power into heat. Experimental data of in-band spurious attenuation will be presented, and emulation-simulation coupled diagnosis system predicts communication performance. Gilbert dumping factor(α) defines frequency bandwidth and peak noise attenuation level.

キーワード:モバイル通信、強磁性薄膜材料、ワンチップDC-DCコンバータ、電磁ノイズ、合金磁性体、酸化物磁性体、強磁性共鳴、受信フロントエンド回路、ギルバートダンピング係数

日時 (Time & Date)

9月5日(火) 14:30-16:00
Tuesday, September 5, 2017, 14:30-16:00

場所 (Place)

立命館大阪梅田キャンパス
大阪府大阪市 北区小松原町2−4
http://www.ritsumei.ac.jp/osakaumedacampus/access/

主催 (Organizer)

IEEE Kansai Section
- Technical Program Committee (TPC)
- Solid State Circuit Society (SSCS) Kansai Chapter
- Magnetic Society (MAG) Kansai/Shikoku Joint Chapter

言語 (Language)

日本語 (Japanese)

プログラム (Program)

 14:30-14:35
挨拶
 14:35-16:00
講演「高周波磁気デバイスの進展とICチップレベルノイズ抑制技術への展開」
東北大学大学院工学研究科電気エネルギーシステム専攻 山口正洋 教授

講演者略歴 (Biography)

山口正洋(ヤマグチマサヒロ)
東北大学大学院工学研究科電気エネルギーシステム専攻 教授

1979年
東北大学工学部電気工学科 卒業
1984年
東北大学大学院工学研究科電気及通信工学専攻修了(工学博士)
1984年
東北大学工学部助手
1991年
東北大学電気通信研究所准教授
1995年10~12月
ウィスコンシン大学マディソン校客員准教授(米国)
2003年~現在
東北大学大学院工学研究科教授
2007年および2014年
IEEE Magnetics Society Sendai Chapter Chair
2007年~2008年
日本磁気学会編集委員長
2012年
IEEE Magnetics Society Distinguished Lecturer(トピック:RF軟磁性薄膜応用)
2014~2016
IEEE Magnetics Society AdCom Member
2016~2017
IEEE EMC Society Sendai Chapter Chair
2016年~現在
電気学会マグネティックス技術委員会委員長
2017~2018
IEEE Magnetics Society Secretary/Treasurer
2012~2017年
国際会議における基調講演1回(RFIT 2015)、招待講演16回(IEEE Intermag 2017、他)。

この情報は,IEEE関西支部ホームページでもご覧になれます。
The information on this lecture is at:http://www.ieee-jp.org/section/kansai/ をご覧ください。

参加費 (Registration fee)

無料 (Free)

参加申込み先 (Contact for registration)

IEEE 関西支部テクニカルプログラムコミッティ(※三菱電機株式会社内) Tel: (06) 6497 7222
E-mail:ieee-kansai-tpcアットrc.MitsubishiElectric.co.jp  (アットを@に変換し,送信してください。)

参加ご希望の方は8月29日(火)までに,Emailにて以下をお知らせください。

  • ご所属 ・お名前(ふりがな)
  • IEEE会員番号(会員の場合)

Please register in advance by E-mail with the information of IEEE member ID (if you have), your name, and affiliation, by August 29, 2017 (Tuesday).

本件連絡先 (For further information)

IEEE Kansai Section Technical Program Committee Chair田邉信二 (三菱電機株式会社 人材開発センター)
E-mail:Tanabe.Shinjiアットdh.MitsubishiElectric.co.jp(アットを @ に変換し、送信してください。)

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$LastChangedDate: 2017-08-03 $

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